1. इलेक्ट्रिक फील्ड का मुख्य कार्य सिद्धांत क्या है?
कैथोड ध्रुवीकरण वृद्धि
आयन प्रवास त्वरण:
बाहरी विद्युत क्षेत्र (आमतौर पर डीसी 3-5V/सेमी) Zn oper od od को एक दिशात्मक तरीके से कैथोड की सतह पर पलायन करने के लिए ड्राइव करता है, एकाग्रता ध्रुवीकरण को कम करता है
→ जमाव की दर में 20-30% (एक ही वर्तमान घनत्व पर) बढ़ी है • न्यूक्लिएशन बाधा में कमी:
इलेक्ट्रिक फील्ड ने 50-100MV तक कैथोड ओवरपोटेंशियल को बढ़ाया, तात्कालिक न्यूक्लिएशन को बढ़ावा दिया (असंतोषजनक न्यूक्लिएशन)
क्रिस्टल प्लेन पसंदीदा अभिविन्यास विनियमन
इलेक्ट्रिक फील्ड Zn²⁺ को C- अक्ष के साथ मैट्रिक्स के लंबवत संरेखित करने के लिए प्रेरित करता है, क्योंकि C- अक्ष के साथ परमाणु स्टैकिंग घनत्व सबसे कम है, और विद्युत क्षेत्र बल आसानी से आयन एम्बेडिंग को चलाता है।
2. जिंक परत की क्रिस्टल संरचना में महत्वपूर्ण परिवर्तन क्या हैं?
अनाज शोधन और समरूपता
कारण: विद्युत क्षेत्र में न्यूक्लिएशन दर बढ़ जाती है (प्रति यूनिट क्षेत्र में नाभिक की संख्या ↑ 3-5 गुना); स्तंभ क्रिस्टल विकास को रोकता है और समान क्रिस्टल गठन को बढ़ावा देता है।
कम क्रिस्टल दोष
अव्यवस्था घनत्व: 10⁰ cm⁻ (पारंपरिक) से घटाया गया (पारंपरिक) 10⁸-10⁹ cm⁻ of (विद्युत क्षेत्र सहायता)
जुड़वां सीमा अनुपात: 12-15% से घटाकर<5% (due to electric field suppression of non-uniform nucleation)
3. ऊतक पर विद्युत क्षेत्र मापदंडों के प्रभाव का कानून क्या है?
वर्तमान घनत्व युग्मन प्रभाव
महत्वपूर्ण अनुकूलन क्षेत्र:
विद्युत क्षेत्र: 3-5 वी/सेमी
वर्तमान घनत्व: 15-25 ए/डीएम → → इस बिंदु पर, बयान दर और अनाज शोधन एक संतुलन तक पहुंचते हैं।
अधिभार जोखिम: जब वर्तमान घनत्व 30 ए/डीएम, से अधिक होता है, तो बिजली के क्षेत्र में लागू होने पर भी छिद्र अभी भी उत्पन्न होते हैं।
4. औद्योगिक अनुप्रयोगों की चुनौतियां क्या हैं?
बढ़त प्रभाव नियंत्रण
समस्या: विद्युत क्षेत्र वर्कपीस के किनारे पर केंद्रित है, जिसके परिणामस्वरूप एक अत्यधिक मोटी जस्ता परत होती है
ऊर्जा खपत अर्थव्यवस्था
ऊर्जा की खपत तुलना:
परंपरागत गैल्वनाइजिंग: 0.3-0.5 kWh/m g
इलेक्ट्रिक फील्ड असिस्टेड: 0.5-0.8 kWh/वर्ग
बड़े भागों की एकरूपता
खंडित विद्युत क्षेत्र प्रौद्योगिकी:
वर्कपीस को वर्गों में विभाजित करें और विभेदित विद्युत क्षेत्रों को लागू करें
5. जस्ता आयन बयान व्यवहार के दिशात्मक विनियमन के माध्यम से इलेक्ट्रिक फील्ड असिस्टेड जस्ता चढ़ाना द्वारा प्राप्त तीन मुख्य परिवर्तन क्या हैं?
Crystallographic optimization: strong (002) texture (>70%) + अनाज शोधन 3-8μm तक।
दोष इंजीनियरिंग: अव्यवस्था/ट्विन घनत्व परिमाण के 1-2 आदेशों से कम।
इंटरफ़ेस को मजबूत करना: Fe-ZN मिश्र धातु परत 50% से पतली और चपटा हो गई।